研究設備

透過型電子顕微鏡:JEM-2010(日本電子データム)
この装置は200kVで加速した電子線を試料に照射し、透過した電子を磁界型レンズで拡大させ、数100万倍ほど拡大した像を観察する装置である。0.1nm(=1Å)の分解能で格子像(原子が規則正しく並んでいる像)を観察することができる。
走査型電子顕微鏡:SU-8010(日立)
この装置は試料の表面形状を、照射電圧1.0kVで1.3nmの高分解能(約30万倍)観察が可能。また、試料に電子線を照射することで元素に固有のエネルギーを持つX線が発生するので、付属のEDX(ホリバ製)によって特定の場所を1µmの分解能で短時間に多元素同時に定性定量分析ができる。
X線回折装置:RINT-UltimaV(リガク)
この装置はX線の回折現象を利用して結晶構造の解析(物質の同定、格子定数の精密化等)を行う装置である。検出器にはシンチレーションカウンターと半導体検出器“D-TEX”を装備し、高いSN比をもつ回折パターンを短時間で得ることができる。
XPS分析装置:JPM-9010MC(日本電子データム)
この装置は試料にX線を照射し、表面(数nm)から発生する光電子を測定することにより、定性分析、化学結合状態等を分析できる。また、励起Arをぶつけ、試料表面を削りながら測定することにより、深さ方向の組成の変化を観察できる。
電子描画装置:ELS-3000(エリオニクス)
この装置は電子線露光・描画・測画装置でPMMA等の電子線感光材料上に、ミクロンオーダの微細な回路パターンを作成することが可能である。おもに光波路等の作成に利用される。
単結晶X線構造解析装置:Saturn70(リガク)
この装置は単結晶にあらゆる方向からX線を照射しその回折X線の強度と方向を測定することにより、分子そのものの立体構造、絶対配置を測定する装置である。従来型の装置に比べCCDを用いた二次元検出器により、短時間で測定することが可能である。
ICP質量分析装置:7700x(アジレント)
この装置は高マトリクスサンプルのルーチン分析向けに構成されており、高マトリクス導入機能 (HMI) や ORS3 セルを搭載しています。高温プラズマ (低酸化物比)、耐マトリクスインタフェース、9 桁のダイナミックレンジを備えた 7700x は、使用頻度の高い機器に必要とされる理想的なロバスト性、感度、分析範囲を提供すると同時に、より高度な研究アプリケーションに対応できる柔軟性も備えています。
非接触表面形状測定機:NewView7300(Zygo)
この装置は走査型白色干渉計をベースにした表面形状測定機である。独自の干渉縞解析手法によりAFMと同クラスの高垂直分解能を有しており、微細形状試料の表面を高精度、広範囲、短時間で測定することが可能である。

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